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央视报道:连ASML也万万没想到,中国“光刻机”突破进展如此之快

发布日期:2021-08-06 16:25:50   浏览量 :295
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  • 半导体的产业在这两年内,虽然扶持力度有着明显的提高,从中取得了一些较为明显的进步,和国外顶尖企业的水平相比,仍然存在着一定技术的差距。然而这些差距主要原因就在于芯片制造,关键设备和材料的缺失,从而导致国内一直到现在也无法制造出先进的芯片产品。

    伴随着全球晶圆工厂的建立,光刻机的需求也在逐日递增。ASML公司的光刻机纵然是目前全球最先进的,但是每年产量只有三十多台,寥寥无几的工厂能够得到成功的采购。三星和台积电也要提前预约的。其他厂商也就更不必讲了。

    《瓦森纳协定》规定了的成员国家不能向非成员国家推出协定清单中的高端技术以及军民两用的产品,其中非成员国家也包括中国,由于协定的显示,我国是不能购买世界先进的光刻机,荷兰的(ASML)阿斯麦尔,还有美国在中间作梗,中国芯片国际的光刻机才会迟迟没有到货。

    中国芯片国际梁孟松有透漏到,中国芯片国际对3纳米和5纳米的关键技术已经正在有序的进行,现在只差光刻机到位就可以进行全方位的研发。光刻机是截止目前为止芯片代工领域最为核心的设备,华为芯片之所以不能生产,其中主要的原因还是光刻机的制约。所以光刻机就是国内制约5纳米芯片发展的主要因素。

    前段时间据央视报道:传来了喜讯,连ASML也万万没想到,中国光刻机技术突破进展如此之快,国内首台的高能源成功的研发成功,弥补了国内辐射光源不足的问题,此时此刻,光刻机的另外一领域双工件台也成功地被华卓精科给拿下,目前已经成功的应用在上海微电子的光刻机上。

    虽然目前为止ASML公司的光刻机依然是独霸世界的,但中国的光刻技术研究也在全面的开始,现在ASML的地位已经有了相应的晃动,目前为止的ASML依旧对中国不开放,未来的市场想必肯定会被中国所分割,欧洲不该追随美国的预言也是ASML公司所说的,从而对中国进行技术的限制,依照中国现在的水平相信三年之内就可以制造出属于中国自己的光刻机,大大的削弱ASML的竞争力。

    伴随着世界的半导体技术逐渐的成熟,还拥有了第三代半导体的材料和技术的应用,中国半导体技术领域研究已经算是成功达到了飞跃进步,高端芯片的制造方面同样也实现了自主创新,中国的芯片领域已经得到了成熟,并且还有了一席之地,高端技术的研究也有了很大的突破,中国攻破光刻机技术算是指日可待了。

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